我国电子工业部电子级水质技术标准(18MQ.cm、15MQ.cm、10MQ. cm、2MQ. cm、0. 5MQ. cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质、标准、国内外大规模集成电路水质标准。
水质要求：新型光电材料生产，加工，清洗；LCD液晶显示器，PDP等离子显示器，高品质灯管显像管，微电子行业，FPC/PCB线路板，线路板，大规模，超大规模集成电路需要大量高纯水，超纯水来清洗半成品，成品。随着集成电路集成度的提高，对水质的要求也越来越高，对超纯水处理工艺和产品的简单性、自动化程度、生产的连续性和可持续性等都提出了更高的要求。
超纯水制备工艺：
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱-→纯水泵-→紫外线器->抛光混床-→精密过滤器-→用水对象(≥ 18MQ .CM) (传统工艺)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MQ.CM) (工艺)
3、预处理→-级反渗透→加药机(PH调节)-→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗透)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线器→0.2或0.5μ m精密过滤器→用水对象(≥17M0. CM) (工艺)
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵-.紫外线器→0.2或0.5μm精密过滤器-.用水对象(三15MQ .M) (工艺)
5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→混合床→紫外线器→精密过滤器→用水对象(≥15MQ.CM) (传统工艺)
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